포토레지스트는 반도체 제조와 같은 미세 가공 공정에서 사용되는 감광성 물질입니다. 이 물질은 빛에 노출되면 화학적 성질이 변화하여, 원하는 패턴을 형성하는 데 도움을 줍니다. 주로 반도체 칩의 제작 과정에서 사용되며, 포토리소그래피 기술과 함께 작동합니다. 이 과정에서 포토레지스트는 기판 위에 얇은 층으로 도포되고, 특정 파장의 빛으로 노출되어 패턴이 형성됩니다.